प्रवाह प्रतिबंधक ओरिफिस प्लेट के लिए प्रमुख चयन बिंदु

(1) गैस और भाप चयन के लिए विचार
गैसों और वाष्पों के लिए प्रतिबंध छिद्र प्लेटों का उपयोग करते समय, चोक प्रवाह से बचने पर विचार करना महत्वपूर्ण है। जब प्रतिबंध छिद्र प्लेट के पीछे का दबाव (P2) प्लेट के सामने के दबाव (P1) के 55% से कम नहीं हो सकता है, अर्थात, जब P2 ≥ 0.55P1, तो एक एकल प्लेट प्रतिबंध छिद्र प्लेट का चयन किया जा सकता है; एक बार P2<0.55P1 होने पर, एक एकल प्लेट का उपयोग नहीं किया जा सकता है और कई प्लेट प्रवाह प्रतिबंध छिद्र प्लेटों का चयन किया जाना चाहिए, यह सुनिश्चित करते हुए कि प्रत्येक प्लेट के पीछे का दबाव प्लेट के सामने के दबाव के 55% से अधिक हो।
उदाहरण के लिए, कुछ भाप संचरण पाइपलाइनों में, यदि प्लेट के पीछे के दबाव का प्लेट के सामने के दबाव से अनुपात गणना या वास्तविक निगरानी के माध्यम से 55% से कम पाया जाता है, तो पाइपलाइन में भाप के स्थिर, सुरक्षित और सुचारू प्रवाह को सुनिश्चित करने, चोक प्रवाह के कारण होने वाली विभिन्न परिचालन समस्याओं से बचने और संपूर्ण प्रक्रिया प्रणाली के सामान्य संचालन को सुनिश्चित करने के लिए इस नियम के अनुसार बहु-प्लेट प्रवाह प्रतिबंध छिद्र प्लेटों का चयन किया जाना चाहिए।

(2) तरल चयन विचार
तरल पदार्थों के लिए, उनका चयन मुख्य रूप से तरल के दबाव ड्रॉप पर आधारित होता है। जब तरल का दबाव ड्रॉप 2.5 MPa से कम या उसके बराबर होता है, तो प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए आमतौर पर एक एकल प्लेट छिद्र प्लेट का चयन किया जाता है। सामान्य घरेलू जल परिवहन पाइपलाइनों और कुछ सरल जल परिसंचरण शीतलन प्रणालियों जैसे परिदृश्यों में, पाइपलाइन में तरल द्वारा उत्पन्न छोटे दबाव ड्रॉप के कारण, प्रवाह दर को नियंत्रित करने और संबंधित दबाव में कमी कार्य को प्राप्त करने के लिए एक एकल प्लेट छिद्र प्लेट पर्याप्त है।
जब तरल दबाव ड्रॉप 2.5 MPa से अधिक होता है, तो कई छिद्र प्लेटों का चयन करने की आवश्यकता होती है, जबकि यह सुनिश्चित किया जाता है कि प्रत्येक छिद्र प्लेट का दबाव ड्रॉप 2.5 MPa से कम हो।
उदाहरण के लिए, बड़े पैमाने पर रासायनिक तरल सामग्री परिवहन पाइपलाइनों या कुछ उच्च दबाव वाले तरल प्रक्रिया प्रवाह में, पाइपलाइन के माध्यम से बहने वाले तरल द्वारा उत्पन्न दबाव ड्रॉप अपेक्षाकृत अधिक होता है। इस मामले में, आवश्यकताओं के अनुसार बहु-प्लेट छिद्र प्लेटों का चयन करना और प्रत्येक प्लेट के दबाव ड्रॉप को उचित रूप से आवंटित करना आवश्यक है ताकि संपूर्ण तरल परिवहन और संबंधित प्रक्रिया लिंक के सुचारू संचालन को सुनिश्चित किया जा सके, और अनुचित दबाव ड्रॉप नियंत्रण के कारण पाइपलाइनों और उपकरणों को नुकसान को रोका जा सके।
(3) छेदों की संख्या निर्धारित करने की विधि

प्रवाह प्रतिबंध छिद्र प्लेट में छेदों की संख्या निर्धारित करते समय, चयन आम तौर पर पाइपलाइन के नाममात्र व्यास पर आधारित होता है। जब पाइपलाइन का नाममात्र व्यास 150 मिमी से कम या उसके बराबर होता है, तो आमतौर पर एक एकल छिद्र प्लेट का उपयोग किया जाता है; जब यह 150 मिमी से अधिक होता है, तो एक छिद्रित प्लेट का उपयोग किया जाता है। छिद्रित छिद्र प्लेटों के छिद्र (do) का चयन आम तौर पर 12.5 मिमी, 20 मिमी, 25 मिमी और 40 मिमी जैसे विनिर्देशों में किया जा सकता है। एक छिद्रित प्लेट में छिद्रों की संख्या (N) की गणना करते समय, पहला कदम एकल छिद्र प्लेट के आधार पर छिद्र आकार (d) की गणना करना है, और फिर चयनित छिद्रित प्लेट में छिद्रों की संख्या निर्धारित करने के लिए सूत्र का उपयोग करना है।
उदाहरण के लिए, 150 मिमी से अधिक नाममात्र व्यास वाली एक बड़ी औद्योगिक पाइपलाइन में, प्रारंभिक चरण में प्रवाह दर जैसे प्रासंगिक मापदंडों के आधार पर एकल छिद्र छिद्र प्लेट के छिद्र की गणना की जाती है। चयनित छिद्रित छिद्र प्लेट के वास्तविक छिद्र विनिर्देश के साथ मिलकर, आवश्यक छेदों की संख्या की सटीक गणना उपरोक्त सूत्र का उपयोग करके की जा सकती है, और प्रभावी द्रव प्रवाह नियंत्रण सुनिश्चित करने के लिए स्थापना और उपयोग के लिए उपयुक्त छिद्रित छिद्र प्लेट निर्धारित की जा सकती है।