संक्षारक माध्यमों के लिए उपकरणों का चयन करते समय, मुख्य सिद्धांत हैंःसामग्री मिलान,माप के सिद्धांतों का अनुकूलन, औरसीलिंग सुरक्षासंपर्क रहित प्रकारों को प्राथमिकता दी जाती है; यदि संपर्क प्रकारों का उपयोग किया जाना है, तो गीले पदार्थों को सख्ती से नियंत्रित किया जाना चाहिए। मध्यम प्रकार और उपकरण प्रकार द्वारा एक पूर्ण चयन योजना नीचे दी गई है।
I. आम संक्षारक माध्यमों और सामग्रियों की त्वरित मिलान तालिका
| मध्यम प्रकार |
विशिष्ट मीडिया |
अनुशंसित गीली सामग्री (प्राथमिकता क्रम में) |
वर्जित सामग्री |
| शक्तिशाली ऑक्सीकरण करने वाले एसिड |
केंद्रित नाइट्रिक एसिड, धूम्रपान नाइट्रिक एसिड, क्रोमिक एसिड |
316L, टाइटेनियम, हैस्टेलॉय सी-276, टैंटलम |
कार्बन स्टील, साधारण स्टेनलेस स्टील |
| मजबूत घटाने वाले एसिड |
केंद्रित हाइड्रोक्लोरिक एसिड, पतला सल्फ्यूरिक एसिड (< 80%) |
हेस्टेलॉय बी-2, टैंटलम, पीटीएफई |
304/316L, टाइटेनियम |
| मजबूत क्षार |
NaOH, KOH (सामान्य तापमान ≤50%) |
316L, हैस्टेलॉय सी, टाइटेनियम |
एल्यूमीनियम, जिंक, साधारण कार्बन स्टील |
| क्लोराइड युक्त मीडिया |
समुद्री जल, NaCl, गीला क्लोरीन गैस |
हेस्टेलॉय सी-276, टाइटेनियम, टैंटलम |
304/316L (पिटिंग जंग के लिए प्रवण) |
| कार्बनिक एसिड |
एसिटिक एसिड, फॉर्मिक एसिड, लिट्रिक एसिड |
316L, टाइटेनियम, हैस्टेलॉय सी, पीटीएफई |
कार्बन स्टील, साधारण रबर |
| अत्यधिक संक्षारक मिश्रित तरल पदार्थ |
एक्वा रेजिया, मिश्रित एसिड |
टैंटलम, प्लैटिनम, पीएफए अस्तर |
लगभग सभी साधारण धातुएं |
| संक्षारक गैसें |
क्लोरीन गैस, अमोनिया गैस, हाइड्रोजन सल्फाइड |
हेस्टेलॉय सी, 316 एल, पीटीएफई |
कार्बन स्टील, साधारण सील |
II. विभिन्न साधनों के लिए चयन गाइड
1. प्रवाह माप
विद्युत चुम्बकीय प्रवाहमीटर: संवाहक संक्षारक तरल पदार्थों के लिए पहली पसंद
- अनुप्रयोग: एसिड-बेस समाधान, नमक समाधान, सीवेज (संवाहकता ≥5μS/cm)
- आवरणः पीटीएफई (≤180°C), पीएफए (≤260°C), रबर (कम संक्षारण)
क्लैंप-ऑन अल्ट्रासोनिक फ्लोमीटर (बिना संपर्क के लिए पहली पसंद)
- आवेदनः अत्यधिक संक्षारक, विषाक्त, कण युक्त, उच्च चिपचिपाहट, गैर-चालक मीडिया
- लाभः संपर्क रहित, शून्य संक्षारण, रखरखाव मुक्त, बंद किए बिना स्थापित करने योग्य
- सीमाएँः पाइप सामग्री/दीवार मोटाई और मध्यम शुद्धता के प्रति संवेदनशील
कोरिओलिस मास फ्लोमीटर (मजबूत जंग के लिए उच्च परिशुद्धता)
- अनुप्रयोगः मजबूत संक्षारण, उच्च परिशुद्धता, कम प्रवाह दर
- सामग्री: हैस्टेलॉय सी-276, टाइटेनियम, टैंटलम से बना माप ट्यूब
धातु ट्यूब रोटेमेटर / ग्लास रोटेमेटर (अंतर्ज्ञानात्मक लघु प्रवाह)
- आवेदनः छोटा प्रवाह, सामान्य दबाव, कमजोर/मध्यम जंग
- सामग्रीः पीटीएफई अस्तर, हैस्टेलॉय मिश्र धातु, टाइटेनियम; पूरी तरह से प्लास्टिक (पीवीसी/पीपी)
- वर्जितः कण युक्त, क्रिस्टलीकरण करने में आसान, उच्च चिपचिपाहट
2दबाव/अंतर दबाव माप
डायाफ्राम प्रेशर गेज/ट्रांसमीटर (मजबूत संक्षारण के लिए पहली पसंद)
- अनुप्रयोगः मजबूत एसिड, मजबूत क्षार, कण युक्त, चिपचिपा, क्रिस्टलीकरण मीडिया
- डायफ्राम सामग्रीः टैंटलम (aqua regia/केंद्रित एसिड), Hastelloy C, टाइटेनियम, 316L, PTFE कोटिंग
3. स्तर माप
रडार/अल्ट्रासोनिक लेवल मीटर (बिना संपर्क के लिए प्रथम विकल्प)
- अनुप्रयोगः मजबूत एसिड, मजबूत क्षार, विषाक्त, वाष्पशील, फोम/धूल युक्त मीडिया
- लाभः संपर्क रहित, शून्य संक्षारण, सामान्य दबाव/बंद/एक्सप्रूफ वातावरण के लिए उपयुक्त
- चयनः उच्च आवृत्ति रडार (मजबूत संक्षारण / भाप), अल्ट्रासोनिक (सामान्य तापमान और दबाव)
चुंबकीय संकुचन स्तर मीटर (उच्च परिशुद्धता संपर्क प्रकार)
- आवेदनः बंद टैंक, एक्स-प्रूफ, उच्च-सटीक संक्षारक मीडिया (औषधीय / ठीक रसायन)
- सामग्रीः फ्लोट/सॉन्ड रॉड 316L, हैस्टेलॉय सी, टाइटेनियम, पीटीएफई कोटिंग
III. आम गलत धारणाएँ और बचने के लिए जाल
- सभी संक्षारक परिदृश्यों के लिए केवल 316L का उपयोग करना (विशेष रूप से क्लोराइड युक्त/केंद्रित हाइड्रोक्लोरिक एसिड में गड्ढे की जंग तेजी से होती है)
- ️ तीव्र संक्षारण के लिए साधारण प्रेशर गेज/ट्रांसमीटर का उपयोग करना (डायफ्राम के बिना लीक अपरिहार्य)
- गैर-संवाहक मीडिया के लिए विद्युत चुम्बकीय प्रवाहमीटर चुनना (कोई संकेत नहीं)
- सील के लिए साधारण रबर का प्रयोग करना (कुछ दिनों में उम्र बढ़ने और रिसाव)
रासायनिक प्रक्रिया उद्योग के विकास और स्वचालन में सुधार के साथ, संयंत्रों के विश्वसनीय संचालन और उत्पादन दक्षता में उपकरण महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं।
सही संक्षारण प्रतिरोधी सामग्री का चयन उपकरण के लंबे सेवा जीवन, कम रखरखाव लागत, उच्च माप सटीकता, उच्च संयंत्र उपलब्धता और आर्थिक लाभ सुनिश्चित करता है।
क्षरण को पूरी तरह से समाप्त नहीं किया जा सकता है,लेकिन उचित सामग्री चयन और सही उत्पाद मिलान विफलता जोखिम को काफी कम कर सकते हैं और उत्पादन संयंत्रों के परिचालन निवेश की रक्षा कर सकते हैं.
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